Silisyòm diyoksid yo itilize nan kawotchou silikon
Ki pi lajman itilize nan kawotchou se silica, ki sitou jwe yon wòl ranfòse nan kawotchou silikon vulkanize. Akòz chèn molekilè trè fleksib nan kawotchou silikon ak entèraksyon entèmolekilè fèb, fòs nan kawotchou ki pa ranfòse se trè fèb epi li pa gen okenn valè pratik. Li dwe ranfòse anvan ou itilize.
Kawotchou ranfòse ak dichloride Silisyòm gen bon pwopriyete fizik epi li lajman ki itilize nan elektwonik medikal. Pwodwi li yo enplike divès depatman nan medikaman, tankou operasyon kraniocerebral, karakteristik feminen, anestezi, sistèm dijestif, operasyon kadyak, operasyon nan vant, ak sistèm urin ak repwodiktif. Kòm yon pwodwi kawotchou medikal, li dwe satisfè kondisyon ki pa -toksik, chimikman inaktif, ki pa alèjik, ki pa patojèn, ki pa deformab, fasil pou trete ak bon pèfòmans anti-aje. Kawotchou silikon ka fondamantalman satisfè kondisyon sa yo.
Spesifikasyon:
|
Metòd tès yo |
Pwopriyete |
Inite yo |
Valè sib (Limit Espesifikasyon) |
Valè aktyèl yo |
|
HG/T3065-2008 |
Pèt sou siye (2Hrs,105 degre)加热减量 |
% |
Max.6.0 |
5.15 |
|
HG/T3066-2008 |
Pèt ignisyon 1000 degre 灼烧减量 |
% |
Max.6.0 |
3.90 |
|
HG/T3072-2008 |
DBP valè absòpsyon DBP吸收值 |
cm3/g |
2.3-2.6 |
2.48 |
|
HG/T3067-2008 |
Valè pH (10% sispansyon akeuz) pH值 |
— |
6.0-8.0 |
6.58 |
|
HG/T3062-2008 |
SiO2 (Baz sèk) 2氧化硅(干基） |
% |
Min.96 |
98.4 |
|
HG/T3073-1999 |
BET espesifik zòn sifas BET比表面积 |
m2/g |
140-170 |
148 |
|
|
Sèl soluble (Na2KONSA4) 可溶性盐 |
% |
Max.0.5 |
0.25 |
|
|
Kontni Fe 铁含量 |
Mg/kg |
Max.200 |
145 |
Baj popilè: diyoksid Silisyòm yo itilize nan kawotchou silikon Lachin, faktori, Swèd, manifaktirè, achte, te fè nan peyi Lachin, ShaXian Sanming
